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pvd(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于pvd技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。

近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是快的，它已经成为当今进的表面处理方式之一。通常所说的pvd镀膜，手表估价，指的就是真空离子镀膜；通常所说的pvd镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。

pvd镀膜离子镀膜技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。采用pvd镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性低摩擦系数、---的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。